12

高真空镀膜仪

设备地点

负责人

联系电话

测试楼306

李杏娥

62333794

研究内容

利用高电压、低电流在稀薄氩气环境中激发氩离子轰击金属靶材，产生的纳米级金属颗粒附着在样品表面，使得样品表面均匀地形成一层极薄的导电膜以减少荷电效应，满足扫描电镜样品制备要求；又可以利用高真空大电流，使碳材料以离散的原子形态蒸发、升华出来，并以极细的颗粒均匀附着在样品表面，满足扫描电镜能谱对样品的要求。

设备参数

型号：EM ACE600，
功率：50/60Hz
真空室： 宽200 × 深150 × 高195 mm
样品台： 直径104mm，3轴（Z/R/T）马达驱动
工作距离：30~100mm可调
溅射电流：0~150mA，可调
溅射时间：1~1800秒，可调

13

离子溅射仪

设备地点

负责人

联系电话

测试楼306

李杏娥

62333794

研究内容

在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子，在阴极（靶材）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子从各个方向溅出，射落到试样的表面，在试样表面形成一层均匀的薄膜，满足扫描电镜对样品导电的要求；。

设备参数

品牌：HITACHI
型号：MC-1000
压力：7Pa
功率：1.5KWA， AC100V，50HZ
样品尺寸：最大直径φ60mm, 最大高度20mm
靶材：Pt，Pt-Pd，Au，Au-Pd

14

真空蒸发镀膜仪

设备地点

负责人

联系电话

测试楼306

李杏娥

62333794

研究内容

利用低电压、大电流、高电阻的触点，使碳材料及金、银、铜、铬等金属材料以原子形态蒸发出来，并以很细的颗粒均匀附着在样品表面，满足扫描电镜对样品导电的要求；以及在高真空状态下，给钢铁样品镀碳膜，采取萃取复型技术制取透射电镜薄膜样品，观察第二相粒子的析出情况。

设备参数

品牌：HITACHI
型号：HUS-5GB
真空度：10-6Torr
功率：1.5KVA， AC100V，50HZ
冷却循环水：2l/min
真空室：φ20cm×25cm
工作台：长10cm×6cm

15

Fischione M1051
离子束减薄系统

设备地点

负责人

联系电话

测试楼306

李杏娥

62333794

研究内容

离子减薄技术通常采用惰性气体氩，通过将氩气离子化后，在电场加速作用下轰击到样品表面，利用动量转移的方式进行可控速率条件下，物理溅射轰击的方式对样品进行减薄，最终实现样品能够达到透射电镜所需的电子束穿透厚度。

设备参数

样品规格标准:3 mm 直径 x 250 µm

16

三离子束切割仪TIC3X

设备地点

负责人

联系电话

测试楼306

李杏娥

62333794

研究内容

应用于固体样品无应力损伤表面/截面制备：
⚫ 截面切割
⚫ 平面抛光
⚫ 衬度增强
可选配样品台：标准样品台/旋转样品台/
三样品台/冷冻样品台

设备参数

抛光面积：∅25mm
样品尺寸<∅38mm/12mm厚
样品移动范围±12.5mm
样品移动速度：0.1-2mm/s
样品旋转速度：2-10RPM
离子束角度：0~48° (∅<20mm)
最大刻度：30°
切割样品台（样品尺寸）：25×20×5mm
加工范围：>4×1mm 深1mm

17

Leica EM TXP
精研一体机

设备地点

负责人

联系电话

测试楼306

李杏娥

62333794

研究内容

应用于对固体样品进行机械加工，具有功能：
⚫ 切割/铣削/冲钻/研磨/抛光
⚫ 为Leica EM TIC 3X、leica EM UC7/FC7
等设备进行样品预制备
⚫ 为各种TEM样品减薄仪制备Ф3 mm圆薄片

设备参数

18

自动临界点干燥仪CPD300

设备地点

负责人

联系电话

测试楼306

李杏娥

62333794

研究内容

临界点干燥仪可以完成微型机电系统（MEMS）等样品的干燥

设备参数

电脑精确控制放气过程，干燥效果好，无变形，重复性高
• 多种样品篮可供选择，灵活方便
• 样品仓175ml，产出量大，高效
• 填充物设计，减少CO2消耗
• 触摸屏控制，简单易学
• 多重安全设定，内置废液分离机制，安全环保

19

辉光放电仪

设备地点

负责人

联系电话

测试楼306

李杏娥

62333794

研究内容

应用于透射电子显微镜对支持膜进行辉光放电，改变其输水性。特别适合生物电镜制样或者纳米材料制样等情况

设备参数

等离子电流范围 0-30mA
样品台尺寸 直径75mm×25mm
工作真空度 1×10-2 MBAR
处理时间范围 0-900Sec
系统控制 3英寸触摸屏，5个功能键
机身容量 300CC（含）
工作温度 5 - 40°C（41 - 104°F）

20

单盘磨抛机

设备地点

负责人

联系电话

测试楼211

杨艳

62333794

设备参数

型号Alpha-108
磨抛盘直径200mm，转速50~1400r/min可调

21

SAPHIR单盘磨抛机

设备地点

负责人

联系电话

测试楼211

杨艳

62333794

研究内容

本机为单盘金相磨抛机，适用于对批量金相试样进行自动粗磨、精磨和抛光。

设备参数

型号：SAPHIR 520
单点加压：1~5个试样，直径40mm，5~100N
中心加压：20~350N 转速：140rpm

22

自动振动抛光机

设备地点

负责人

联系电话

测试楼211

王晶

62333794

研究内容

用于EBSD(背散射电子衍射)，AFM(原子力显微镜)分析和纳米压痕或显微硬度测试样品的的前序设备，消除测试样品表面的残余应力。

设备参数

型号：Saphir Vibro
抛光池内径：308mm 同时抛光样品数量：21个
排气接口：φ40mm 环境温度：10~40℃
连接功率：0.25kVA 电源：220-240V

23

手自动磨抛机

设备地点

负责人

联系电话

测试楼212

王晶

62333794

研究内容

本机为金相磨抛机，适用于对批量金相试样进行自动粗磨、精磨和抛光。

设备参数

型号：SAPHIR 520
单点加压：1-5个试样，φ40mm，压力5-100N
转速：140r/min
中心加压：根据试样选择磨抛夹具，可定制，压力20-350N

24

202A金刚石线切割机

设备地点

负责人

联系电话

鼎新楼317A

张高伟

62333794

研究内容

用于陶瓷等脆性材料样品的精密切割，可以对材料进行切片、切断、开方

设备参数

主轴转速：2rpm-260rpm
切割线总长：20m

25

604金刚石线切割机

设备地点

负责人

联系电话

鼎新楼317A

张高伟

62333794

研究内容

主要用于材料分析样品的精密切割，例如陶瓷、晶体、玻璃、金属、岩石、复合材料等，尤其适合于进行超薄片的精密切割

设备参数

金刚石线长度 ≤150m
主轴转速 ：5m/s 可调

26

802自动精密研抛机

设备地点

负责人

联系电话

鼎新楼317A

张高伟

62333794

研究内容

适用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样

设备参数

研抛盘直径：Φ203 mm
研抛盘转速：10-250rpm（无级调速）

27

划片机

设备地点

负责人

联系电话

鼎新楼317

张高伟

62333794

研究内容

用于各种晶体、陶瓷、玻璃、矿石、金属等材料的划片、划槽及切割

设备参数

主轴转速：0-3000rpm无极调速
最大切割深度：50mm

28

叠片软压机

设备地点

负责人

联系电话

鼎新楼-1层

张高伟

62333794

研究内容

用于片式电容器、片式电感器生产丝印前的压膜工序

设备参数

常用工作压力10MPa，最大压力12.5MPa
温度范围：室温-85℃

29

金相抛光机

设备地点

负责人

联系电话

鼎新楼317

张高伟

62333794

研究内容

用于对金属、陶瓷等材料进行表面抛光处理，以制备用于金相分析的平滑表面

设备参数

转速900rpm
抛盘直径 φ200mm

30

真空包装机

设备地点

负责人

联系电话

鼎新楼-1层

张高伟

62333794

研究内容

对固体、液体、粉体等材料进行真空包装。

设备参数

热封条有效尺寸400mm*10mm
极限真空度1kPa

31

手动快速切割机

设备地点

负责人

联系电话

鼎新楼2层

张高伟

62333794

研究内容

陶瓷、金属样品的切割

设备参数

100rpm-2000rpm内无级变速
工作台尺寸600mm×600mm×700mm